[2012 KES] 고성능, 고순도 소자 제조를 위한 고품질 세정액

반도체나 LCD 소자의 성능과 신뢰성을 높이기 위해서는 생산 과정에서 발생하는 불순물을 완벽히 제거할 수 있는 세정 과정이 필수다. 당연히 이 때 사용되는 세정액의 역할이 중요시된다. (주)제우스는 1970년 창사 이래 반도체, LCD, LED, 신재생에너지에 관련한 토털 솔루션을 제공해온 기업으로, 이번 2012 전자정보통신산업대전에 고순도 세정액인 나노스트립(Nano-Strip)을 출품한다.

나노스트립은 황산과 과수에 새로운 첨가제를 혼합하여 개발되었다. PR 박리(Strip), Pre-diffusion 세정, Pre-metal dip 및 웨이퍼 세정, 포토마스크 / LCD, 사파이어 세정 공정에서 사용할 수 있다. 또한, Stripping 용량과 배쓰(Bath)의 수명을 연장시킴과 동시에, 성능 신뢰성이 높은 고순도 제품을 생산할 수 있으며, 금속 접착율 및 폐기물 발생율을 낮출 수 있다

또한, 나노스트립은 컨테이너에서 배쓰로 곧장 부어 사용할 수 있으며, 상온에서도 유기 및 무기물을 효과적으로 제거할 수 있다. 이와 함께, 페놀 및 염소의 발생이 없으므로 기존의 세정액을 사용할 때에 비해 유독 폐기물의 양을 최대 70%까지 줄일 수 있어 사후 처리 비용을 크게 줄일 수 있는 것도 특징이다.

이 외에도 (주)제우스는 반도체 세정 기술에 관한 핵심 기술을 다수 보유하고 있는 글로벌 Top 3의 Wet Station 기업이다. 또한, 매엽식세정, 건식세정 등의 차세대 세정 기술 또한 확보하고 있어 각종 식각액, 현상액, PR remover, 세정액의 개발 및 제조가 가능하다.

글 / IT동아 편집부(it.donga.com)